ELSZ-2000S  OTSUKA大冢- 電位測量系統(tǒng)

除以往的稀薄溶液～濃厚溶液中的粒子直徑測量，也可以測量分子量。
粒子直徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.1.2%～40%）對應。
另外，在0～90度的廣泛的溫度范圍內(nèi)，可以進行自動溫度凹陷測量的變性·相轉(zhuǎn)移溫度解析。

特長：
OTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000S
實現(xiàn)*新型高靈敏度APD的靈敏度和測量時間縮短

根據(jù)自動溫度檢測，可以分析變性和轉(zhuǎn)移溫度

在0～90度的寬的溫度范圍內(nèi)可以測量

添加廣泛的分子量測量和分析功能

對應懸浮的高濃度樣本的粒子直徑測量

用途

在界面化學、無機物、半導體、高分子、生物、藥學、醫(yī)學領域等方面，不僅僅是微粒子，*適合處理膠卷和平板型試料的表面科學的基礎研究和應用研究。

新功能材料領域

燃料電池相關（碳納米管、泥管、功能性膜、催化劑、納米金屬）

與生物納米相關（納米膠囊、伊麗塔、DDS、生物納米粒子）、納米泡沫等

陶瓷彩色材料工業(yè)領域

陶瓷（硅、氧化鈦、氧化鈦等）

無機佐爾的表面改質(zhì)·分散?凝集控制

顏料（碳素黑有機顏料）的分散?凝集控制

拉力狀樣本

彩色濾鏡

浮游選礦物的捕獲材料吸附的研究



半導體領域

對硅晶片表面的異物附著的機制闡明

研磨劑、添加劑和晶片表面相互作用的研究

CMPIC



高分子化學工業(yè)領域

布萊斯（涂費?粘合劑）的分散?凝集控制、拉特克斯的表面改質(zhì)（醫(yī)藥用?工業(yè)用）

高分子電解質(zhì)（聚氨酸氨酸等）的功能性的研究，功能性納米粒子

研究紙、紙漿的制紙工程控制和紙漿添加劑的研究



醫(yī)藥品工業(yè)領域

美容（食品?香料?醫(yī)療?化妝品）的分散?凝集控制、蛋白質(zhì)的功能性

反射鏡的分散?凝集控制、界面活性劑（米袋）的功能性

仕　様

●測定範囲

*1（Latex112nm： 0.00001 ～ 10%、タウロコール酸： ～ 40%）

市販品の角セルでの粒子徑?分子量測定に対応したセルユニット。
ガラス?ディスポ?微量セルが使用可能。

ガラスセル（分子量?粒徑用セル）

【 粒子徑/分子量セルユニットを用いた測定例はこちら 】

原理

溶液中の粒子は、粒子徑に依存したブラウン運動をしているため、この粒子に光を照射した時に得られる散亂光は、小粒子は素速い揺らぎを、大粒子はゆっくりした揺らぎを示します。
この揺らぎを光子相関法で解析することにより粒子徑や粒度分布が求められます。溶液中の粒子は、粒子徑に依存したブラウン運動をしているため、この粒子に光を照射した時に得られる散亂光は、小粒子は素速い揺らぎを、大粒子はゆっくりした揺らぎを示します。
この揺らぎを光子相関法で解析することにより粒子徑や粒度分布が求められます。

靜的光散亂法は、簡便に絶対分子量を測定する手法として知られています。
測定原理は、溶液中の分子に光を照射し、得られる散亂光の絶対値から分子量を求めています。即ち、大きな分子からは強い散亂光が、小さな分子からは弱い散亂光が得られる現(xiàn)象を利用しています。
実際には濃度によっても得られる散亂光強度は異なるため、數(shù)點の異なる濃度の溶液の散亂強度を?qū)g測し、次式に基づいて橫軸に濃度を、縦軸に散亂強度の逆數(shù)に相當するKc／R（θ）をプロットします。これをDebyeプロットと呼びます。
濃度ゼロへ外挿した切片（c=0）の逆數(shù)から分子量Mwを、初期勾配より**ビリアル係數(shù)A2が求められます。

分子量が大きな分子は、散亂強度に角度依存性が現(xiàn)れるため、異なる散亂角度（θ）での散亂強度を測定することで分子量の測定精度向上と、分子の広がりの指標となる慣性半徑の情報が得られます。
角度固定で測定する際は、推定される慣性半徑を入力することで角度依存測定に相當する補正をおこない、分子量の測定精度を向上させることができます。